| Ondolonga Gamo | : | 190-1100nm |
| Spektra Bandwidth | : | 2nm (5nm, 4nm, 1nm, 0,5nm laŭvola) |
| Precizeco de ondolongo | : | ± 0,3 nm |
| Reproduktebleco de ondolongo | : | ≤0.15nm |
| Fotometria Sistemo | : | Duobla radio, aŭtomata skanado, duoblaj detektiloj |
| Fotometria Precizeco | : | ±0.3τ (0~100τ) ± 0.002A (0~0.5A) ±0.004A (0.5~1A) |
| Fotometria Reproduktebleco | : | ≤0.15%τ |
| Labora Reĝimo | : | T, A, C, E |
| Fotometria Gamo | : | -0,3-3,5A |
| Devaga Lumo | : | ≤0.05%τ (Nal, 220nm, NaNO2 360 nm) |
| Bazlinio Plateco | : | ± 0,002A |
| Stabileco | : | ≤0.001A/h (je 500nm, post varmiĝo) |
| Bruo | : | ±0.001A (je 500nm, post varmiĝo) |
| Montru | : | 6 coloj alta helblua LCD |
| Detektilo | : | Silicia fotodiodo |
| Potenco | : | AC 220V/50Hz, 110V/60Hz 180W |
| Dimensioj | : | 630×470×210mm |
| Pezo | : | 26 kg |
| Ondolonga Gamo | : | 190-1100nm |
| Spektra Bandwidth | : | 2nm (5nm, 4nm, 1nm, 0,5nm laŭvola) |
| Precizeco de ondolongo | : | ± 0,3 nm |
| Reproduktebleco de ondolongo | : | 0.15 nm |
| Fotometria Sistemo | : | Monitorado de disradia proporcio, aŭtomata skanado, duoblaj detektiloj |
| Fotometria Precizeco | : | ±0.3τ (0~100τ) ± 0.002A (0~0.5A) ±0.004A (0.5~1A) |
| Fotometria Reproduktebleco | : | 0,2% τ |
| Labora Reĝimo | : | T, A, C, E |
| Fotometria Gamo | : | -0,3-3A |
| Devaga Lumo | : | ≤0.05%τ (Nal, 220nm, NaNO2 360 nm) |
| Bazlinio Plateco | : | ± 0,002A |
| Stabileco | : | ≤0.001A/30min (je 500nm, post varmiĝo) |
| Bruo | : | ±0.001A (je 500nm, post varmiĝo) |
| Montru | : | 6 coloj alta helblua LCD |
| Detektilo | : | Silicia fotodiodo |
| Potenco | : | AC 220V/50Hz, 110V/60Hz 180W |
| Dimensioj | : | 630×470×210mm |
| Pezo | : | 26 kg |
| Ondolonga Gamo | : | 190-1100nm |
| Spektra Bandwidth | : | 2nm (5nm, 1nm, laŭvola) |
| Precizeco de ondolongo | : | ± 0,3 nm |
| Reproduktebleco de ondolongo | : | 0.2nm |
| Fotometria Sistemo | : | Ununura trabo, ebena krado de 1200L/mm |
| Fotometria Precizeco | : | ±0.3τ (0~100τ) ± 0.002A (0~0.5A) ±0.004A (0.5~1A) |
| Fotometria Reproduktebleco | : | ≤0.15%τ |
| Labora Reĝimo | : | T, A (-0,3-3A), C, E |
| Fotometria Gamo | : | -0,3-3A |
| Devaga Lumo | : | ≤0.05%τ (Nal, 220nm, NaNO2 360 nm) |
| Bazlinio Plateco | : | ± 0,002A |
| Stabileco | : | ≤0.001A/30min (je 500nm, post varmiĝo) |
| Bruo | : | ±0.001A (je 500nm, post varmiĝo) |
| Montru | : | 6 coloj alta helblua LCD |
| Detektilo | : | Silicia fotodiodo |
| Potenco | : | AC 220V/50Hz, 110V/60Hz 140W |
| Dimensioj | : | 530×410×210mm |
| Pezo | : | 18 kg |
| Ondolonga Gamo | : | 320-1100nm |
| Spektra Bandwidth | : | 2nm (5nm, 1nm, laŭvola) |
| Precizeco de ondolongo | : | ± 0,5 nm |
| Reproduktebleco de ondolongo | : | 0.2nm |
| Fotometria Sistemo | : | Ununura trabo, ebena krado de 1200L/mm |
| Fotometria Precizeco | : | ±0.3τ (0~100τ) ± 0.002A (0~0.5A) ±0.004A (0.5~1A) |
| Fotometria Reproduktebleco | : | ≤0.15%τ |
| Labora Reĝimo | : | T, A, C, E |
| Fotometria Gamo | : | -0,3-3A |
| Devaga Lumo | : | ≤0.05%τ (Nal, 220nm, NaNO2 360 nm) |
| Bazlinio Plateco | : | ± 0,002A |
| Stabileco | : | ≤0.001A/30min (je 500nm, post varmiĝo) |
| Lumo Fonto | : | Halogena lampo de volframo |
| Montru | : | 6 coloj alta helblua LCD |
| Detektilo | : | Silicia fotodiodo |
| Potenco | : | AC 220V/50Hz, 110V/60Hz 140W |
| Dimensioj | : | 530×410×210mm |
| Pezo | : | 18 kg |